簡要描述：光化學高壓反應釜實驗室裝置是由：特制光源，不銹鋼釜體以及控制系統(tǒng)組成。用于新能源，環(huán)境、新藥研發(fā)領域的高溫高壓光化學催化、合成、降解的中試及放大生產。
產品型號：廠商性質：生產廠家更新時間：2025-10-19瀏覽次數(shù)：2125
巖征儀器 實驗室裝置高壓反應釜是由：特制光源，不銹鋼釜體以及控制系統(tǒng)組成。用于新能源，環(huán)境、新藥研發(fā)領域的高溫高壓光化學催化、合成、降解的中試及放大生產。
巖征儀器 ?實驗室裝置高壓反應釜技術特點：
1、光源可按照客戶要求選擇，采用LCD10.1英吋液晶觸摸控制器，光源光電參數(shù)及光化學反應的溫度，攪拌等參數(shù)實時數(shù)字顯示在屏幕上。
2、光源與釜體連接部分采用技術保證耐壓氣密性，國內*。
3、更專業(yè)的光化學釜體生產工藝：釜體包含壓力表、防爆裝置、進氣閥門、取樣閥門，溫度測溫探桿，耐壓光源插入口等，在保證您的生產安全前提下更方便您的操作。
4、采用浸入式光源設計，物料與光源充分接觸，光化學反應釜配備大功率攪拌電機帶動錨式攪拌槳，讓物料能均勻吸收光子能量。
5、嵌入式一體加熱模塊結構，加熱更均勻。釜體、加熱器可*分離。極大的方便了反應釜的拆卸工作，提高工作效率。
6、除了提供普通廠家提供的SU316L材質的釜體外，還提供不銹鋼內襯teflon，鈦材，鎳材，哈氏合金等非標材質釜體的定做。
巖征儀器 光化學配置表：
| 型號 | YZ-GHX-HP系列 |
| 光源類型 | 低壓汞燈,高壓汞燈,氙氣燈,鈉燈,led燈,準分子燈 |
| 光源冷卻形式 | 強制水冷，采用強制導流夾套式光源冷阱 |
| 容積 | 5-500L |
| 釜體材質 | 不銹鋼304,316L,TA2,蒙乃爾合金，哈氏合金 |
| 設計參數(shù) | 設計壓力1mpa,設計溫度：250℃ |
| 工作參數(shù) | 工作壓力0.5mpa，工作溫度：220℃ |
| 攪拌設計 | 采用磁力耦合機械式攪拌，零泄漏，攪拌轉速：0-750轉/分 |
| 釜體開口 | 釜蓋開有進氣口，出氣口，測溫口，光源插入口，特殊要求非標設計 |
| 加熱方式 | 電加熱，可選導熱油，蒸汽，及紅外加熱 |
| 控制系統(tǒng) | 一體式控制機柜，上部控制光源，下部分控制反應釜溫度，攪拌 |
| 光源冷卻設備 | 大功率激光冷水機，給光源及冷凝回流提供降溫保證 |
